Hafnium kan reagere med luft for å danne et beskyttende lag av oksidfilm. Når temperaturen er 500 ~ 750 °C, vil oksidfilmen miste sin beskyttende effekt, og kombineres med oksygen, nitrogen og andre gasser ved oppvarming for å danne oksider og lystgassforbindelser. Ved temperaturer over 800 ° C oksiderer hafnium raskt til HfO2.
Hafnium har god korrosjonsbestandighet og reagerer ikke med fortynnet saltsyre, fortynnet svovelsyre og sterke alkaliløsninger, men er løselig i hydrofluorsyre og aqua regia.
Hafnium i forbindelser har ofte en +4 valens, hovedforbindelsen er hafniumoksid HfO2, det er tre forskjellige varianter: monoklinisk variant, tetragonal variant og kubisk variant. +4 valence hafnium er også lett å danne komplekser med fluorider som består av K2HFF6, K3HFF7, (NH4) 2HFF6, (NH4) 3HFF7.
